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光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測量

更新時間:2023-02-16  |  點擊率:1102
  光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk,采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺,可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度,可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式,也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸,盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉(zhuǎn)換,匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時應(yīng)配合其它檢測手段驗證測試結(jié)果的準(zhǔn)確性,同時應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì),防止自來水中的電解質(zhì)造成顆粒團(tuán)聚影響測試結(jié)果。適用于已知折射率的單一物質(zhì)粒度分布測試,因此測試前要知道被測樣品的折射率,折射率選取的不同會對測試結(jié)果造成一定的影響。
  光學(xué)膜厚儀的主要特點:基片折射率和消光系數(shù)測量;薄膜厚度測量,平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析;薄膜折射率和消光系數(shù)測量;適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片;測試數(shù)據(jù)輸出和加載;直接Patterned或特征機構(gòu)的試樣測試;可用于實時在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測;波長范圍可選;系統(tǒng)配備強大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫,便于測試和數(shù)據(jù)分析。
  光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜,并且還有半導(dǎo)體液晶顯示器等一系列的材料和產(chǎn)品的測量。一般的產(chǎn)品我們可以拿尺來進(jìn)行測量,對精度要求也不高。但是對薄膜等產(chǎn)品來說,精度是關(guān)系到產(chǎn)品的組裝和性能的,所以一定要測量。測量儀不僅能夠準(zhǔn)確的進(jìn)行測量,還能及時的顯示出數(shù)據(jù)。
  其次可以計算薄膜厚度,一般采用光干涉法,薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù),我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。
  再次,就是操作方便,效率較高。這種優(yōu)勢對于薄膜測試的時候是非常重要的,畢竟薄膜測試是一種比較枯燥的工作,如果測試又比較繁雜的話,會使人心情焦躁,難免會影響測試時間和測試結(jié)果。而操作方便,容易上手,幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析,發(fā)展?jié)摿薮蟆?/div>


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